关键尺寸测量的一个重要原因是要达到对产品所有线宽的精确控制，因为芯片关键尺寸的变化通常显示出半导体制造工艺中一些关键环节的不稳定性。 关键尺寸测量需要精度和准确性优于2nm的测量仪器，能够获得这种测量水平的仪器是扫描电子显微镜（SEM）。

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